定义

　　是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

　　通俗地说，它就是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列和连接的布局设计。

　   集成电路布图设计取得

　　布图设计专有权，是指通过申请注册后，依法获得的利用集成电路设计布图实现布图设计价值得到商业利益的权利。

　　（一）集成电路布图设计权的主体

　　按照我国《集成电路布图设计保护条例》第3条的规定，中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的，依照本条例享有布图设计权。

　　（二）客体条件

　　集成电路布图设计必须具备***性。

　　布图设计应当是作者依靠自己的脑力劳动完成的，设计必须是突破常规的贵的设计或者即使设计者使用常规设计但通过不同的组合方式体现出***性时，都可以获得法律保护。

　　（三）方式和程序

　　目前，世界各国主要采取三种取得方式：自然取得，登记取得，使用与登记取得，大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。

　　取得的程序：

　　（1）申请：向国家知识产权行政部门提交申请文件；

　　（2）初审；

　　（3）登记并公告；

　　（4）对驳回申请的复审；

　　（5）登记的撤销。

　　（四）集成电路布图设计申请阶段需提交的材料：

　　（1）集成电路布图设计登记申请表。

　　（2）集成电路布图设计的复制件或者图样。

　　（3）集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。

　　（4）国家知识产权局规定的其他材料。 

　　集成电路布图设计保护期限

布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方***投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。

　　集成电路布图设计获取流程

　　一、申请：向国家知识产权行政部门提交申请文件；

　　二、初审；

　　三、登记并公告；

　　四、对驳回申请的复审；

　　五、登记的撤销。